8CCD阻焊曝光机

曝光机是20世纪60年初扫描电子显微镜基础发展而来的一种新光刻技术在70年代后广泛应用于半导体电路板生产制造。曝光机即电子串曝光机是集电子光学、机械、真空、电气、计算机技术等于一体的复杂的半导体加工设备。广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域。


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该设备主要通过借助深圳双翌的对位算法,利用四相机对PCB与菲林的四个角点靶标图像识别,识别后进行均分对位同时也考虑产品来料的畸变等因素。

传统手动曝光机,菲林与底板手工对位精度100um左右,重复定位靠人眼对位,劳动强度非常大,年轻人不愿意承担,由于高精度、高速度的工艺需求,需要提高曝光机的核心竞争力。

通过对位平台的运动,使得模板和菲林重合,理想的对位情况:菲林圆形靶标的中心和PCB同心圆靶标的中心完全重合,即效果为两圆心重合。

 

外层:孔最大  即PCB板的孔为3.1725mm

           上菲林  次之   2.5mm(内径为2.2mm)    2.2mm(内径2.0mm)

           下菲林 实心圆  大小1mm或者0.8mm


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