简单科普：什么是明场检测与暗场检测？

明场与暗场

要解释清楚明场检测与暗场检测，首先就要弄明白明场与暗场的区别。明场与暗场多少有点专业术语（黑话）的感觉，通俗点儿讲，所谓明场，可以简单的理解为背景是亮的缺陷是暗的；暗场则相反，背景是暗的缺陷是亮的。

明场检测与暗场检测

在半导体晶圆制造环节中，为提高产品良率、降低生产成本、推进工艺迭代，对晶圆制造过程中缺陷的检测至关重要。根据检测技术的不同，缺陷检测可分为电子束检测、光学检测以及X光量测三种。

再根据光源方式、成像原理的差异，光学检测又可分为明场检测（有时候也叫亮场检测）与暗场检测，有图形检测与无图形检测。

明场检测示意图

明场缺陷检测是指在明亮的环境下通过物体的反射光，对产品的缺陷进行检测，通常使用显微镜或高分辨率相机等光学设备，适用于对产品表面较大的损伤、瑕疵或其它缺陷的检测。

暗场缺陷检测是通过将光源放置在被检测物体的背后，使用强窄光束照射样本，通过对样本散射光线的检测，这时样本表面的视场是暗的，没有缺陷的地方一片黑暗，缺陷处有散射光亮，其对于检测晶圆表面的颗粒与表面缺陷非常灵敏。。

明场检测与暗场检测的最大区别就是检测源是反射光还是散射光。

暗场检测示意图

道量检测是半导体晶圆制造的关键工序之一，其中明场和暗场检测是重要的检测环节，对芯片制造起着至关重要的作用，是的重要环节，在多个方面存在很大的不同。

明场检测与暗场检测的成像区别

一般情况下，明场检测的成像样品为黑色背景为白色，暗场检测的成像样品为白色背景为黑色。

一颗芯片在明场与暗场下的成像，左明右暗

明场检测对于较大的缺陷更为敏感，暗场检测则对微小的缺陷更为敏感。