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基于机器视觉的精密对位系统结构复杂,集成了精密机械技术、光学系统/图像处理技术/智能控制技术等多项技术。精密机械工作平台是精密机械技术的重要组成部分,也是精密对位系统中的关键子系统,它对组装对位设备完成精确的器件对位起着至关重要的作用。目前常见的对位运动平台如下图所示:
1、 XYθ工作平台
如上图所示,XYθ工作平台是最为常用的工作平台,θ是独立的转动轴,可以旋转大角度,缺点是平台的叠加性造成了误差的叠加放大,精度不易保证。随着平板显示技术迅猛发展,平板展示产品对其加工设备精度的要求也不断提高,XYθ平台逐步被精密对位应用场合所淘汰。
2、 Xθ+Y工作平台
所谓Xθ+Y工作平台就是工件能够沿X和θ方向运动,Y轴能独立于X和θ轴自由运动,一般应用在玻璃切割,线阵CCD扫描的场合,所以不适合应用于精密对位系统中。
3、 XXY(UVW)工作平台
日本常用名称为”UVW”,而台湾一般称呼为“XXY”,XXY就是两个X方向的轴向,搭配一个Y方向轴向,剩余一轴采用自由轴。它的出现用来取代某型传统的XYθ的应用。不同于传统叠加型的XYθ的结构,整体高度有效降低,增加了机台空间的利用率。
UVW工作平台是一种新型的用于精密对位系统中的工作平台,凭借着结构简单、运动灵活、控制较方便、定位精度高等总舵优点,在平板显示行业众多加工设备中得到了广泛的应用。
4、 XXYY工作平台
因制程不断提升,为了能让超大尺寸的XXY平台也能精准对位,由上图可知,XXYY是把XXY中的自由轴也加上马达,使之称为可主动带动运动轴的轴向,故称作XXYY。
超大平台的未来趋势-XXYY简介
为何要提升至XXYY?当平台台面达到1500mm时候,还是使用XXY来做对位的话,会产生什么问题呢?
条件1:当X1和X2激磁不动作
条件2:浮立轴预压正常,无异常情形
条件3:马达皆正常动作
情形:
X1和X2不动作进行计策,此时进行Y方向移动,因大台面的原因,单Y1推动的力量和机构间存在的微小间隙,可能会导致整个台面的移动不正确,产生误角度出现,出现定位失准现象。
条件1:当X1和X2激磁不动作
条件2:马达皆正常动作
情形:
X1和X2不动作进行计策,此时进行Y方向移动1mm,因大台面的原因,Y1和Y2共同进行运动,让整个台面正确移动,不产生误角度,定位准确。
XXYY解决Y方向失准问题,也有本身存在的优缺点:
优点:
a.相对于三轴,XXYY四轴皆受马达激磁,排除外力或不定因素造成自由轴移位,可实现 平台最好的稳定状态。
b.排除Y方向失准问题,进行准确的移位。
缺点:
a.软件支援少,目前仍以三轴为主流。
b.进行Y方向运动时是不会产生角度的,Y1和Y2皆是单纯的Y方向,在同时动作时, 动作距离如果不精准,再加上模组本身的螺杆和导轨有些间隙问题,在累积两轴的动作 误差后,有可能会造成结构上的顺坏。
c.成本比三轴来得高。
d.增加Y2轴,也增加软件的运算难度,在进行角度运算时,连Y2轴也必需考虑进去。
运算角度时,四轴运算的难度提升
名称 | 新型UVW平台(EXXY平台) | 传统XYθ平台 |
平台 | ||
定义 | XXY顾名思义就是两个X方向的轴向,搭配一个Y方向的轴向剩余一轴采用自由轴,所以也有人称XXY或是日本常用的名称“UVW” |
由两个平移平台和一个旋转平台组建而成的三维平台 |
优缺点 | (1) 能够构成薄型结构、负载比较强 (2) 容易得高精度 (3) 价格比较昂贵 (4) 构造比较复杂,不容易自己设计 | (1) 整体厚度比较大 (2) 一般的精度 (3) 价格相对便宜 (4) 构造比较简单,容易设计 |
3个伺服电机控制U轴、V轴、W轴3轴, 能够在任意位置定位的平台。
※中央平台被一个倒T型的支架固定。
UVW(XXY)平台的特色
Ø 薄-不同于传统XYθ的结构少了DD马达的厚度与成本,整体高度有效降低,进而减轻本身重量,增加机台空间的利用率。
Ø 准-平台经由精密研磨加工,每个机构环节皆经过严密测试及结构上的调校。搭配影像对位软件,整体精度可与客户讨论选择最适合的条件。
Ø 稳-在每个环节,包括组成平台的机件、马达驱动器、线轨螺杆等等,皆是经过长时间累绩经验,反复修正,用最佳加工方法和高稳定度的零组件,达到平台最稳定的状态。
动作简介
要实现微米级的定位要求有许多不同的方式,采用直线电机和气浮导轨可以消除摩擦影像,行程长,但是成本很高,体积大,适用场合受到限制;采用压电元件驱动,以柔性铰链为弹性导轨克服了机械摩擦等因素,可以获得纳米级的定位精度,但压电元件的变形有限,一般运动范围在十几微米。传统的采用伺服电机和精密丝杠传动的方案,尽管存在机械间隙、摩擦力以及爬行现象,但是这些缺陷在一定程度上能予以克服,同时丝杠螺母机构可以做到微米级以下精度,经济成本不高。
平台数学模型
如果是UVW平台,设U轴到平台中心Ot的距离为UR,伺服电机可以的分辨率为10000个脉冲一圈,丝杠的导程Pitch为5mm,那这样U轴的最小位移量Umin可以达到0.5um;将设当UR=100mm时平台可以旋转的细分角度可以达到arctan(0.0005/100)。具体计算如下:
Umin = 5mm/10000Pulse =0.0005mm/Pulse
tan(θmin)=0.0005/100 θmin =arctan(0.0005/100)≈0.0003度
而如果使用XYθ类型的平台机构,则旋转的细分角度θmin就是电机自身能旋转的最小角度,当伺服电机的分辨率为10000pulse/Rev时,它的细分角度最小为(2π/10000) = 0.036度。从理论上分析,UVW平台的角度细分精度远远大于XYθ类型的平台机构。
通过以上分析对平台机构的分析和计算,UVW平台在许多方面要优于其他的平台。
(1)直驱型
直驱型由于采用马达直接驱动旋转平台,所以旋转角度和马达的分辨率有关:
假如:
我们采用的电机驱动器分辨率为:10000P/R即电机旋转1圈需要10000个脉冲,而传动比为90:1,即电机转动90圈,平台才转动1圈,即旋转平台转动1圈需要90*10000 = 900000个脉冲,那么对于旋转平台来说,每个脉冲移动的角度为2π/900000.
若是电机不加减速机,直接通过电机轴和联轴器连接旋转平台,那么传动比则为1:1,即电机转动1圈,旋转平台即转动1圈,如上例所示,则旋转平台每个脉冲移动的角度为2π/10000。
(2)直线驱动型
直线驱动型旋转平台
直线驱动型为采用丝杆带动连杆,使平台进行旋转运动。
根据数学公式:
角度(θ)=弧长(L)/半径(R)即可算出这种类型的分辨率
假设旋转轴电机可以的分辨率为10000个脉冲一圈,丝杠的导程Pitch为5mm,那这样旋转轴的最小位移量Umin可以达到0.5um;将旋转半径R(即上图中的L):R=100mm时平台可以旋转的细分角度可以达到arctan(0.0005/100)。具体计算如下:
Umin = 5mm/10000Pulse =0.0005mm/Pulse
tan(θmin)=0.0005/100 θmin =arctan(0.0005/100)≈0.0003度
此时,这个电机每一个脉冲,旋转平台转动0.0003度。
对位系统包的基本概念 (1)
对位系统包是指,使用2~4颗相机针对目标物(Mark点)的位置,2~4颗相机采集Mark点的信息,算出XYθ移动量。
具有自动调整功能,相机安装时,不需要很麻烦地吻合X、Y坐标以及进行相机->平台坐标转换的复杂运算。若是检测Mark点变化后,只需执行自动调整,就可以简单恢复到模板的位置,从而保证对位精度。若是产品变换,导致Mark点变换后,只需要重新对新的Mark点进行模板学习,即可完成对位操作。使得产品品种变更后实现自动对位也变得十分简单。
对位系统包的基本概念(2)
自标定(Auto Calibration)
如果利用对位控制器,此前使用图像处理装置时不可或缺的校正工序能够自动完成。
(1)自动算出各摄像头的分辨率、视野大小
(2)自动算出相机与平台的角度
(3)自动测得两相机之间的关系,统一大坐标系。
通过移动分别X、Y、θ轴,自动算出相机的分辨率、视野大小,以及对平台进行自标定。
对位系统包的基本概念(3)
自动对位
根据之前的自标定,算出相对于基准位置的对象物mark的坐标即移动Mark的偏移量。然后移动X、Y、θ进行对位。最终完成对位。若是一次没有将当前mark点移动回和基准位置的mark一样的位置,那么可以进行重复操作直到完成对位。
XYθ视觉对位平台的系统原理
XYθ视觉对位平台的系统原理图
在本系统中,采用双CCD进行待测物靶标的读取,通过图像处理系统与基准靶标进行比较,运用图形识别算法计算平台移动量,通过工控机和运动控制卡控制电机执行运动,达到薄膜上的靶标与基准靶标的对准,进而完成对位调整。